Оборудование и технология выполнения Реактивно-Ионного Травления в производстве полупроводниковых интегральных схем.

Технология полупроводникового производства базируется в настоящее время на таких сложных прецизионных процессах обработка, как фото – и электронолитография, оксидирование, ионно-плазменное распыление, ионная имплантация, диффузия, термокомпрессия и др. К материалам, используемым в производстве приборов и микросхем, предъявляют высокие требования по чистоте и совершенству структуры. Для осуществления большинства технологических операций используют уникальное по характеристикам оборудование: оптико-механическое, термическое, ионно-лучевое. Процессы осуществляются в специальных обеспыленных помещения с заданными влажностью и температурой.[1] В данной работе рассмотрено оборудование и технология выполнения реактивно-ионного травления в производстве полупроводниковых интегральных схем. Подробно рассмотрена малогабаритная вакуумная установка реактивно-ионного травления «МВУ ТМ Плазма-РИТ». .

---

Если вы ищете хорошие сайты с рефератами , заходите на Work5 и заказывайте работу.

---

В данной дипломной работе рассматривалось производство интегральных микросхем, технологические особенности ионно-плазменного распыления. Также был произведен обзор установок для реактивно ионного травления, в котором рассмотрены их возможности и технические характеристики. Была подробно рассмотрена малогабаритная вакуумная установка реактивно-ионного травления. В данной вакуумной установке используется источник плазмы высокой плотности на основе ВЧ-разряда, формирующий так называемую "трансформаторно-связанную плазму" (ТСР). ТСР-разряд позволяет травить различные материалы микроэлектроники с высоким разрешением (менее 0,2 мкм) и осаждать слои из парогазовых смесей (плазменно-стимулированный CVD-процесс), обеспечивая при этом высокую эффективность и качество проведения процесса.

Курносов А. И., Юдин В. В. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем: Учеб. Пособие для вузов по спец. «Полупроводники и диэлектрики» и «Полупроводниковые приборы». 3-е изд., перераб. и доп. – М.: Высш. шк., 1986. – 368 с., ил. 2. http://elektrotehportal.ru/25-2-proizvodstvo-integralnyx-mikrosxem/ 3. Оборудование производства интегральных микросхем и промышленные роботы: Учеб. для техникумов/ Ю.В. Панфилов, В.Т. Рябов, Ю.Б. Цветков. – М.: Радио и связь, 1988. – 320 с.: ил. 4. Конспект лекций 5. Интернет